什么是真空镀膜设备呢

　　什么是真空镀膜设备呢

　　真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。

　　其主要思路是分成蒸发和溅射两种，需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

　　如果是对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

　　真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次，可以用烧碱(NaOH)饱和溶液反复真空镀膜设备擦洗真空室内壁，( 注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液，以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应，反应后膜层脱落，并释放出氢气，再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。