磁控溅射卷绕镀膜设备的优点

2021-02-26  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:233


  磁控溅射卷绕镀膜设备,磁控溅射具有以下两大优点:提高等离子密度,从而提高溅射速度;减少轰击零件的电子数目,因而降低了基材因电子的升温。

  因此,该技术在薄膜技术中占有主导地位。磁控溅射阴极的缺点:使用平面靶材,靶材在跑道区形成溅射沟道,这沟道一旦贯穿靶材,则整块靶材即报废,因而靶材的利用率只有20-30%。

  不过,目前为了避免这个缺点,很多靶材采用圆柱靶材形式,靶材利用率得以大幅度提高。

关键词: 磁控溅射卷绕镀膜设备           

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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