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发布时间:2021-02-26磁控溅射卷绕镀膜设备的优点
磁控溅射卷绕镀膜设备,磁控溅射具有以下两大优点:提高等离子密度,从而提高溅射速度;减少轰击零件的电子数目,因而降低了基材因电子的升温。
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发布时间:2021-01-22真空镀铝设备的2种形式及优势
真空镀铝设备品种多样,有多弧离子真空镀膜机、卷绕镀膜机、电阻蒸发真空镀膜机、 超硬质工具镀膜机等其他零配件的技术及新型的材料,使得工艺产品的质量大大提高。 真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射,这两种都可镀成相应的颜色。真空蒸发镀膜更为广泛,常用电阻加热法,
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发布时间:2021-01-22磁控溅射镀膜设备能够应用于哪些方面呢?
磁控溅射镀膜设备在硬质涂层中的应用:比如说切削工具、磨具和耐磨耐腐蚀等配件。在防护涂层中的应用:飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。
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发布时间:2021-01-12真空卷绕镀膜机有哪些类型,以及它的原理?
蒸发式卷绕镀膜设备根据蒸镀工艺可分为连续式、半连续式和间歇式三种,因设备结构不同还可分为:单室、双室和多室卷绕镀膜设备
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发布时间:2021-01-12卷绕镀膜机卷膜条件
卷绕镀膜机卷膜条件: 卷膜有效幅宽 1050mm 卷膜大直径 ф400mm 卷绕芯轴直径 ф100mm(3寸不锈钢芯轴)
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发布时间:2021-01-12磁控溅射镀膜技术在陶瓷表面装饰中采用的工艺流程
磁控溅射镀膜设备配合NCVM工艺,能够实现对于陶瓷电子消费品的表面装饰处理,在保证陶瓷强度和硬度的同时,也能够提升其美观性和艺术性,好地满足消费者的个性化需求
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发布时间:2020-12-28多弧离子镀膜机的应用范围
多弧离子镀膜机的应用范围主要可以分为两大类,一类为工具类产品的镀膜,一类为装饰镀膜。
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发布时间:2020-12-28浅析真空镀膜机的原理
真空镀膜机是目前制作真空条件应用为广泛的真空设备,一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大工作原理。
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发布时间:2020-12-16多弧离子镀膜机几种排气方法
多弧离子镀膜机的抽真空通常采用下面几种排气方法:单纯排气工艺、抽空加热排气工艺、空气预加热排气工艺。
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发布时间:2020-12-16磁控溅射镀膜机磁控溅射技术的应用范围
磁控溅射目前是一种应用十分广泛的薄膜沉积技术,溅射技术上的不断发展和对新功能薄膜的探索研究,使磁控溅射应用延伸到许多生产和科研领域。在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
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发布时间:2020-12-09真空PVD镀膜设备镀前预处理和镀后处理方法
PVD镀膜设备镀前预处理的目的是为了得到干净新鲜的金属表面,为获得高质量镀层作准备,要进行脱脂、去锈蚀、去灰尘等工作。
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发布时间:2020-12-09PVD镀膜设备厂家告诉你保养秘诀
许多人对于真空镀膜设备的保养都是不重视的,这就导致了真空镀膜设备容易出现很多问题,那么真空镀膜设备的保养秘诀是什么呢?下面PVD镀膜设备厂家告诉你。