真空电镀机应用和注意事项

　　真空电镀机应用和注意事项

　　1)真空电镀机中频磁控溅射电源对磁控溅射靶的要求较高，“孪生”的对靶，要求表面磁场、溅射面积、靶的材质和厚度要尽可能一致。不然会影响电源工作，严重时会导致过流保护。

　　2)由于两个靶交替工作，中频磁控溅射电源的起辉电压和工作电压较高，低气压下也容易出现灭辉现象。

　　3)因两个靶交替工作，从理论上讲中频磁控溅射电源的电流或功率选择，基本上可以按直流磁控溅射的两倍来定，但考虑到其工作电压较高，可适当降低工作电流。

　　4)由于目前中频磁控溅射电源的工作频率较低(20～60KHz)，还不能溅射绝缘靶材。

　　5)中频磁控溅射电源的空载电压一般为≥1000V～1200V，工作电压为500V～800V，工作频率为20KHz～60KHz,占空比为10%～90%。

　　6)工作频率高一些，有利于增加打火抑制能力，但会限制电源输出平均电流的能力。

　　4、送气系统:主要由电磁阀开关和气体流量控制两部分组成

　　5、偏压电源：在多弧离子和磁控溅射镀膜技术中都要使用。只是由于磁控溅射的离化率远低于多弧离子镀，所需偏压电源的功率更小。目前有许多设备既配备磁控溅射靶，也配有多弧靶，选择偏压电源功率时，要以多支工作时的要求来定。早期的偏压电压主要是用可控硅技术的直流偏压电源，现在多为采用高频逆变技术制造的单极性、直流叠加脉冲和双极性脉冲偏压电源。因灭弧和防打火功能太差，已经逐渐被淘汰。偏压电源主要用于多弧离子和磁控溅射镀膜过程中的辉光清洗、离子轰击和膜层沉积时在被镀工件上施加偏压，在辉光清洗时，它产生辉光;在离子轰击中用于加速离子，提高离子轰击工件表面进的能量，达到啬溅射清洗效果和膜层结合力的目的，在膜层沉积时，它也用于增加离子能量，促进和改善薄膜生长，也会提高膜基结合力。

　　1)通用单极性脉冲偏压电源的输出电压为100～1000V,频率为20～80KHz，占空比为10%～80%，输出电流取决于多弧靶的数量和弧流的大小。通常可按3～5A/个选取，而只用于磁控溅射镀膜的偏压电源。则根据工件表面积和辉光放电清洗强度来选，通常可按5A/m2左右来选取。

　　2)调高频率和减小占空比能减小打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。实际使用中要根据实际工作情况和需要来调节。

　　3)增大占空比可提高离子轰击的能量，有利于提高膜基结合力和膜层的致密性，但会降低成膜速率，实际使用中要根据需要调节、

　　4)辉光清洗电压大约500～1000V，离子轰击电压大约400～800V，成膜电压大约50～300V，在工模具镀膜中，也有采用1500V，3000V,甚至5000V偏压电源的，但应用较少。

　　5)工作中如出现低压大电流现象或反复保护，电压、电流不稳定现象，很可能设备有短路和持续拉弧现象，应进行维修。

　　6)工作中打火频繁。而且提高频率和占空比也无明显改善时，可能是膜层绝缘性高或工件上有绝缘材料，这时好选用双极性脉冲偏压电源。