真空镀膜机金属电镀层及适用范围

　　真空镀膜机电化学沉积指的是用电化学方法在金属或非金属制件表面沉积一层或多层金属镀层或合金镀层或复合镀层的技术。通常是，表面具有导电能力的制件，于电解质溶液中，被置于阴极，在外电流的作用下，该溶液中的金属离子，或络合离子在制件表面，即阴极表面发生还原反应，使金属沉积在制件的表面，这一过程又叫金属电沉积，俗称电镀。用真空镀膜设备电镀的方法可以在金属或非金属制件表面得到功能各异的多种镀层，满足在不同环境中对制件的使用要求。

　　它们涉及四大类：耐腐蚀、抗氧化;耐磨损、减摩;装饰、美化;声、光、磁、电的转换，以及其他方面如催化、杀菌等。内容包括单金属镀层、合金镀层、复合镀层、磷化、钝化、化学氧化、电化学氧化等。目前研究方向包括：合金电镀、激光电镀、微粒弥散复合电镀、纤维增强复合电镀、梯度功能复合电镀、微弧氧化、纳米电龟镀与纳米多层膜电镀等。怎么挑选市场上形形色色的真空设备?真空镀膜机电镀层设计的选用要在了解它们的特性、设计依据、适用范围、不宜或不允许使用范围的基础上进行，进而确定厚度系列与工艺。

　　虽然，它在表面处理技术中的历史较长，工艺也比较成熟，但随着现代工业和技术的飞速发展，对真空镀膜设备电镀层的功能性要求越来越高，如高的耐腐蚀性、抗氧化性、良好的导电性、高硬度、高的耐磨性以及某些特殊的物理、化学特性，像特殊的电学性质、磁学性质、半导体性能以及超导性能等，电镀新技术也不断在发展。