真空镀铝设备厂家介绍真空镀膜技术中的热点问题

　　真空镀铝设备厂家介绍真空镀膜技术中的热点问题

　　真空镀铝设备蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。

　　一、对于蒸发镀膜：

　　一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

　　厚度均匀性主要取决于：

　　1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

　　2、基片表面温度

　　3. 蒸发功率，速率

　　4. 真空度

　　5. 镀膜时间，厚度大小。

　　组分均匀性：

　　蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

　　晶向均匀性：

　　1。晶格匹配度

　　2。基片温度

　　3。蒸发速率

　　溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

　　溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。