真空镀铝设备厂家介绍真空镀膜技术中的热点问题

2020-11-28  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:58

  真空镀铝设备厂家介绍真空镀膜技术中的热点问题

  真空镀铝设备蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等。

  一、对于蒸发镀膜:

  一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

  厚度均匀性主要取决于:

  1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

  2、基片表面温度

  3. 蒸发功率,速率

  4. 真空度

  5. 镀膜时间,厚度大小。

  组分均匀性:

  蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。

  晶向均匀性:

  1。晶格匹配度

  2。基片温度

  3。蒸发速率

  溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

  溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。


关键词: 真空镀铝设备           

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