溅射镀膜机技术配置介绍
2018-01-19 来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:1394
CCZK-SF磁控溅射镀膜机,具备成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好,可实现大面积镀膜相对于传统蒸发镀膜设备,磁控溅射镀膜可获得更为优秀的膜层致密性,均匀性和结合力采用最为先进的直流或中频磁控溅射电源,满足不同层次客户需求
腔体结构: 立式前开门,卧式前开门。
材质用料:腔体材质为SUS304不锈钢或碳钢
真空系统: 扩散泵(可选分子泵)+罗茨泵+机械泵+维持泵(另有深冷泵系统可供选择)
溅射靶材: 中心圆柱靶,平面靶,孪生靶等
磁控电源: 可配备直流或中频磁控溅射电源
转动系统: 变频调速,公自转结合,可根据客户产品和要求设计
膜层结构: 单层膜、多层膜
气体控制: 气体流量控制仪集成触控操作控制
人机界面: PLC智能控制+HMI触摸屏
操作方式: 逻辑全自动方式、半自动方式、手动方式
智能控制: PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面,实现全自动控制
报警及保护:异常情况进行报警,并执行相应保护措施。