离子镀基本工艺流程

2018-01-30  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:795

  离子镀基本工艺流程

  ①工件的预热.

  一般的离子镀方法使用烘烤加热装置对工件进行加热,而热阴极离子镀则是利用等离子电子束轰击工件;电弧离子镀是利用金属离子轰击工件,对工件加热,达到预热的目的,有时电弧离子镀也采用辅助烘烤加热装置对工件进行预热。

  ②离子轰击溅射清洗.

  一般离子镀的离子轰击溅射清洗是基片施加负偏压,利用辉光放电产生的氩离子轰击基片,对基片进行离子轰击溅射清洗,而热阴极离子镀是利用等离子电子束轰击辅助阳级,氩离子轰击基片进行离子轰击溅射清洗;电弧离子镀是利用金属离子轰击工件,对工件加热的同时对工件进行离子轰击溅射清洗。

  ③离子沉积.

  不同的离子镀方法在离子沉积时,所使用的源和离化方法不同,具体的设备不同,沉积的膜层不同,其工艺程序和工艺参数也不同,因此,应根据具体情况确定沉积的工艺程序和工艺参数,还应注意在整个沉积过程中保持工艺参数的稳定。

关键词: 离子镀           

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


CopyRight © 版权所有: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 技术支持:诚一网络 网站地图 XML 备案号:粤ICP备18060884号-1


扫一扫访问移动端