IBSH-1030离子溅射镀膜机简介

　　IBSH-1030离子溅射镀膜机简介

　　特点：

　　1、基板水平放置，垂直监控;

　　2、靶材左右移动，位置和速度可编程控制;

　　3、基板：12吋×1 或 6吋×4;

　　4、靶材：两靶，三靶或四靶可更换;

　　5、多光路监控。

　　6、无膜厚分布修正板

　　工艺参数：

　　一，真空系统

　　1、极限真空度：4.0×10-5Pa

　　2、抽至10Pa所用时间：≦ 10 分钟

　　3、漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec

　　二，控制精度

　　1、靶材旋转：0.005°

　　2、工件旋转: <1000RPM

　　3、编码器: 12000lines;480000Counts/rev

　　4、膜厚修正板：0.005°

　　5、挡板: position switch

　　三，光学监控系统OMS

　　1、波长范围：380nm～1650nm

　　2、光源稳定性 :白光< 0.1%，激光< 0.02%

　　3、波长分辨率: 白光0.2nm，激光0.1nm

　　4、波长准确度: 白光0.2nm ，激光0.1nm