IBSH-1030离子溅射镀膜机简介

2018-03-01  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:911

  IBSH-1030离子溅射镀膜机简介

  特点:

  1、基板水平放置,垂直监控;

  2、靶材左右移动,位置和速度可编程控制;

  3、基板:12吋×1 或 6吋×4;

  4、靶材:两靶,三靶或四靶可更换;

  5、多光路监控。

  6、无膜厚分布修正板

  工艺参数:

  一,真空系统

  1、极限真空度:4.0×10-5Pa

  2、抽至10Pa所用时间:≦ 10 分钟

  3、漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec

  二,控制精度

  1、靶材旋转:0.005°

  2、工件旋转: <1000RPM

  3、编码器: 12000lines;480000Counts/rev

  4、膜厚修正板:0.005°

  5、挡板: position switch

  三,光学监控系统OMS

  1、波长范围:380nm~1650nm

  2、光源稳定性 :白光< 0.1%,激光< 0.02%

  3、波长分辨率: 白光0.2nm,激光0.1nm

  4、波长准确度: 白光0.2nm ,激光0.1nm


关键词: 离子镀膜机           

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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