磁控镀膜机的溅射方式有哪些
2020-09-03 来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:857
下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。
主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种：(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.
现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.
直流溅射发展后期,人们在其表面加上磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法.
而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象.
而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.
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